證券時報網
李小平
2025-01-21 12:46
拓荊科技(688072)1月20日晚披露2024年年度業(yè)績預告，經財務部門初步測算，預計公司2024年年度實現營業(yè)收入40億元至42億元，與上年同期相比增加12.95億元至14.95億元，同比增長47.88%至55.27%。
拓荊科技是國內量產型PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、SACVD（次常壓化學氣相沉積）、HDPCVD（高密度等離子體增強化學氣相沉積）、超高深寬比溝槽填充CVD等薄膜沉積設備和混合鍵合設備的領軍企業(yè)。拓荊科技目前已經形成半導體薄膜沉積設備和混合鍵合設備兩個產品系列。拓荊科技聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。
我國近年來在半導體設備領域發(fā)展較快，但高端半導體設備自給率仍較低，這也為包括拓荊科技在內的國內半導體設備廠商的發(fā)展提供了巨大的成長機遇。
拓荊科技預計2024年年度營業(yè)收入較上年同期有較大增幅的主要原因是，公司作為國內高端半導體設備領域的領軍企業(yè)，繼續(xù)專注于薄膜沉積設備和混合鍵合設備的自主研發(fā)與產業(yè)化，憑借在產品技術創(chuàng)新、客戶資源、售后服務等方面的核心競爭優(yōu)勢，PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深寬比溝槽填充CVD（Flowable CVD）及混合鍵合設備等系列產品量產規(guī)模不斷擴大，持續(xù)獲得客戶訂單，公司業(yè)務規(guī)模呈現快速增長趨勢。2024年度，公司出貨超過1000個設備反應腔，創(chuàng)公司歷史年度新高。
另外，公司在2024年度持續(xù)保持高強度的研發(fā)投入，堅持自主創(chuàng)新，在推進新產品研發(fā)、產品產業(yè)化和各產品系列迭代升級的過程中取得了重要成果，包括Flowable CVD設備、PECVD Bianca工藝設備、PE-ALD SiN工藝設備、HDPCVDFSG、HDPCVD STI工藝設備、鍵合套準精度量測設備等一系列新產品及新工藝經下游用戶驗證導入，實現了產業(yè)化，同時，新型設備平臺PF-300M、PF-300TPlus及新型反應腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工藝設備順利通過客戶驗證，并取得客戶重復訂單，實現大批量出貨，進一步提升了公司產品性能及核心競爭力，助力公司收入穩(wěn)步增長。
據證券時報記者了解，目前，拓荊科技成熟產品的核心技術及關鍵性能指標均已達到國際同類設備先進水平，并在客戶端廣泛應用，這與拓荊科技不斷加大力度推進產品研發(fā)及產業(yè)化密不可分。
2021年至2023年，拓荊科技研發(fā)投入分別為2.88億元、3.79億元和5.76億元，研發(fā)投入在營業(yè)收入中的占比分別為38.04%、22.21%和21.29%。2024年前三季度，拓荊科技研發(fā)投入4.81億元，同比增長35.73%。
截至2024年6月30日，拓荊科技累計申請專利1279項（含PCT）、獲得專利402項。其中，拓荊科技今年上半年新增申請專利74項（含 PCT）、新增獲得專利45項。
拓荊科技此前在接受證券時報記者采訪時表示，隨著公司先進產品陸續(xù)推出，公司業(yè)務規(guī)模逐步擴大，產品布局逐漸完善，客戶認可度持續(xù)攀升，產品已成功應用于行業(yè)領先集成電路制造企業(yè)產線，設備出貨量大幅增加。
